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Ciência da Lógica & Complexidade [CLC2]. Apresentação de um artigo científico que fala de técnicas para a mensuração de patentes de propriedade industrial, que são um tipo de atividade intelectual explicitada (AIE) que pode ser realizada por servidores públicos. O índice Interno de esforço (IIE), em sua aproximação da complexidade (IIEa) é comparado a outras técnicas da literatura científica, tendo como principal diferencial a capacidade de medir os resultados da patente no momento do seu depósito (registro). O IIEa é um medidor genérico da complexidade criado especialmente para melhorar a avaliação de desempenho de servidores públicos do Brasil.
Referência: Oliveira, A. A., Fung, C. W. H., Burkarker, E., Pilatti, L. A. & Santos, C. B. (2023). Metrificação de patentes: Uma análise entre qualidade, complexidade e esforço. In: Encontro Nacional de Engenharia de Produção, 2023, Ceará. XLIII ENEGEP. DOI: 10.14488/enegep2023_tn_st_404_1989_45333. Disponível em: .
Sumário
0:00 Capa
0:30 Resumo
3:55 Introdução
15:30 Métricas de patentes
23:06 O dataset (dados) da pesquisa
27:55 Variáveis das patentes (brainstorm)
41:46 Resultados estatísticos (correlação)
46:20 Distribuição Normal (Gaussiana)
54:30 Discussão dos resultados e conclusões
1:03:00 Sínteses e considerações finais
Ciência da Lógica & Complexidade [CLC2]. Apresentação de um artigo científico que fala de técnicas para a mensuração de patentes de propriedade industrial, que são um tipo de atividade intelectual explicitada (AIE) que pode ser realizada por servidores públicos. O índice Interno de esforço (IIE), em sua aproximação da complexidade (IIEa) é comparado a outras técnicas da literatura científica, tendo como principal diferencial a capacidade de medir os resultados da patente no momento do seu depósito (registro). O IIEa é um medidor genérico da complexidade criado especialmente para melhorar a avaliação de desempenho de servidores públicos do Brasil.
Referência: Oliveira, A. A., Fung, C. W. H., Burkarker, E., Pilatti, L. A. & Santos, C. B. (2023). Metrificação de patentes: Uma análise entre qualidade, complexidade e esforço. In: Encontro Nacional de Engenharia de Produção, 2023, Ceará. XLIII ENEGEP. DOI: 10.14488/enegep2023_tn_st_404_1989_45333. Disponível em: .
Sumário
0:00 Capa
0:30 Resumo
3:55 Introdução
15:30 Métricas de patentes
23:06 O dataset (dados) da pesquisa
27:55 Variáveis das patentes (brainstorm)
41:46 Resultados estatísticos (correlação)
46:20 Distribuição Normal (Gaussiana)
54:30 Discussão dos resultados e conclusões
1:03:00 Sínteses e considerações finais
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